Частина інжектора іонів Mo
Частина інжектора іонів Mo

Частина інжектора іонів Mo

Іонний імплантатор є ключовим обладнанням для створення інтегральної схеми. Коли пучки іонів потрапляють на поверхню напівпровідника та осаджуються, концентрація носіїв і тип провідності змінюються.
Послати повідомлення
Опис продукції

 

Іонний імплантатор є ключовим обладнанням для створення інтегральної схеми. Коли пучки іонів потрапляють на поверхню напівпровідника та осаджуються, концентрація носіїв і тип провідності змінюються. Завдяки відмінній модифікації поверхні іонна імплантація широко застосовується в напівпровідникових матеріалах, металі, кераміці, високомолекулярних полімерах тощо. Іонна імплантація є важливою для створення масивної інтегральної схеми.

 

Деталі з молібдену є ключовими компонентами в системі джерела іонів напівпровідникового іонного імплантатора для стримування та екранування іонізуючих променів. Катод компонента іонної імплантації вольфраму для іонного імплантатора

 

Специфікація

 

Номер моделі

Частина інжектора іонів Mo

Форма

Індивідуальний

матеріал

Молібден, Вольфрам

Хімічний склад

Вт, Пн

Назва продукту

Запчастини для іонної імплантації молубдену

матеріал

вольфрам/вольфрамовий сплав

Чистота

99,95% Мін

Форма

Індивідуальний

застосування

іонна імплантація

Щільність

10,2 г/см3, 19,2 г/см3

Поверхня

полірований

Сертифікат

ISO 9001 та ISO14001

Інша назва

молібденова частина

 

Популярні Мітки: частина мо іонного інжектора, Китай постачальники частин мо іонного інжектора, фабрика