Матеріал покриття PVD

• Мішень для розпилення оксиду цинку (ZnO).

  Мішень для розпилення оксиду цинку (ZnO), яка використовується для фізичного осадження з парової фази магнетронного розпилення. Доступні різні діаметри, товщини та ступінь чистоти для всіх...

  Більш
• Мішень для розпилення фториду магнію (MgF2).

  Фторид магнію — це біла кристалічна сіль, яка прозора в широкому діапазоні довжин хвиль і використовується в оптиці, а також у космічних телескопах. Він зустрічається в природі як рідкісний...

  Більш
• Мішень для розпилення оксиду літію і кобальту (LiCoO2).

  Оксид літію-кобальту є шаруватою структурою, що забезпечує двовимірний тунель для міграції літій-іонів. Мішень для розпилення LiCoO2 є чудовим матеріалом для виготовлення батарей завдяки чудовим...

  Більш
• Мішень для розпилення оксиду молібдену (MoO3).

  Мішень для розпилення оксиду молібдену можна використовувати в напівпровідникових, хімічних осадженнях з парової фази (CVD), фізичних осадженнях з парової фази (PVD) і оптичних додатках. Ми є...

  Більш
• Мішень для розпилення оксиду магнію (MgO).

  Оксид магнію в мішенях для розпилення в основному відображається у високошвидкісному формуванні плівок, застосуванні в мікроелектроніці та фотоелектричній промисловості, спеціальних процесах...

  Більш
• Мішень для розпилення дисульфіду молібдену (MoS2).

  MoSi2 є тетрагональною структурою. Це проміжна фаза з найвищим вмістом кремнію в системі бінарних сплавів Mo-Si. Це інтерметалічна сполука Дальтона з фіксованим складом, сірим і металевим блиском.

  Більш
• Мішень для розпилення оксиду ніобію (Nb2O5).

  Наші мішені з оксиду ніобію виготовляються за допомогою сучасних процесів вакуумного гарячого пресування, гарячого ізостатичного пресування, холодного пресування, спікання та термічного напилення....

  Більш
• Мішень для напилення з оксиду нікелю (NiO).

  Мішень NiO — це матеріал, який використовується в технологіях вирощування тонких плівок, таких як фізичне осадження з парової фази (PVD) і хімічне осадження з парової фази (CVD). Ці технології...

  Більш
• Мішень для напилення з карбіду кремнію (SiC).

  У цьому розділі детально розглядаються основні характеристики мішеней з карбіду кремнію, від його хімічних і фізичних властивостей, методів приготування до всебічного аналізу показників оцінки...

  Більш
• Мішень для розпилення монооксиду кремнію (SiO).

  Монооксид кремнію — це неорганічна сполука з хімічною формулою SiO. Це аморфний порошок від чорно-коричневого до лесового кольору при кімнатній температурі та тиску.

  Більш
• Мішень для розпилення оксиду алюмінію (Al2O3).

  Цільовий матеріал з оксиду алюмінію, цей високочистий керамічний матеріал високої щільності, не тільки має чудову стабільність, але й може витримувати екстремальні температурні умови. Він відіграє...

  Більш
• Мішень для напилення з нітриду алюмінію (AlN).

  Мішень для напилення з нітриду алюмінію також можна назвати нітридом алюмінію високої чистоти, матеріалом для осадження тонкої плівки, мішенню для напівпровідникової промисловості, мішенню для...

  Більш